jueves, 31 de enero de 2013

FASHION AND TECHNOLOGY EN EL MUSEUM AT FIT DE NUEVA YORK

María y yo acordamos encontrarnos en el Museo que forma parte del Instituto de Moda y Tecnología de Nueva York (Museum at FIT). Era la fría mañana del dia 4 de enero. Como llegué unos minutos antes de la hora convenida, aproveché para entrar en la cafetería de enfrente, y mientras me tomaba un café, pude contemplar a través de los ventanales, el tráfico y la gente que caminaba con prisas por la populosa 7ª Avenida, también llamada "Fashion Avenue".  

Fachada exterior del Museo
Tras tomar algunas fotos de la fachada del edificio, entré al lobby del museo; es amplio, luminoso y muy moderno. A la hora convenida, llegó mi amiga María Cartagena, quien iba a acompañarme en la visita.
María Cartagena



María es neoyorkina, estudió Diseño de Moda en el FIT (Fashion Institute of Technology) y es autora del Blog titulado One Style at a Time del que soy seguidora y que os recomiendo. A través de sus interesantes reseñas, nos mantiene puntualmente informados de las últimas tendencias en moda.









Tras saludarnos y charlar unos minutos, entramos a la exposición, titulada "Fashion and Technology" (Moda y Tecnología), que se podrá visitar hasta el día 8 de Mayo. 
 

El objetivo de la exposición, es el análisis cronológico de los avances que la tecnología ha provocado en la evolución de la moda. Comenzando con algunos de los inventos que desde finales del siglo XVIII, y a lo largo del XIX, han marcado de forma constatable el rumbo de la producción textil y la confección en serie.
 
© 2012 The Museum at FIT

El telar de Jacquard, la máquina de coser,las nuevas técnicas de acabados con efecto de superficie, como el moiré*, y los tintes a base de anilina*, son algunos de los primeros avances.

A partir del siglo XX, las innovaciones tecnológicas se van sucediendo de forma imparable. Por ejemplo, el desarrollo de las técnicas de estampación, y los nuevos tejidos sintéticos*, hacen que nos resulte imposible saber si el diseño sigue a la tecnología o si es a la inversa. La interacción es innegable.

© 2012 The Museum at FIT
En los años 60, diseñadores como Courrèges, Cardin, el español Paco Rabanne, Emilio Pucci  e incluso Yves Saint Laurent, se atreven a innovar aportando nuevos materiales hasta entonces inéditos; como el papel, el metal, o el PVC. 

Vestido color fucsia, diseño de Pierre Cardin, con volúmenes en 3D, 1968
© 2012 The Museum at FIT

© 2012 The Museum at FIT
Los años 90 aportaron innovaciones de la mano de los diseñadores japoneses, quienes experimentaron con nuevas técnicas y materiales. A la izquierda, uno de los vestidos de la colección Pleats Please, 1997 (con tejido de monofilamento de poliéster plisado) de uno de mis diseñadores favoritos Yssey Miyake. Al centro, el conjunto holograma de Kenneth Richards, 1996. Y el jumpsuit cibernético con estampado op-art de Jean Paul Gaultier, 1996.

© 2012 The Museum at FIT
En el siglo XXI, la influencia de las innovaciones tecnológicas sobre la industria textil sigue siendo imparable; formas, volúmenes, materiales y propiedades añadidas a los tejidos, son algunos de los aspectos que los diseñadores actuales siguen trabajando. Lo vemos en estos tres conjuntos, de izquierda a derecha: Gareth Pough, 2012, Louise Gray, 2012, y Mandy Coon, 2013. 
 
© 2012 The Museum at FIT

La tecnología 3D, que emplea un láser controlado por ordenador, que es capaz de esculpir de forma perfecta un prenda capa por capa. Este ejemplo creado por el estudio de diseño holandés "Freedom of Creation" nos lo muestra. El vestido, y el bolso a juego fueron creados especialmente para la colección del Museo.

A continuación, os propongo que veáis el video del proceso. 





En la última parte de la exposición, podremos encontrar el análisis que se hace sobre las distintas formas en que se manifiestan los avances tecnológicos hoy en día; desde textiles, hasta software de diseño para la creación de redes en medios sociales, así como el aumento de la velocidad en la comunicación global.

© 2012 The Museum at FIT

Producido por Burberry en 2011, este desfile holográfico, se proyecta a tamaño natural junto a un  monitor con un live feed de Twitter, mientras dos IPads te ofrecen un acceso directo a la web de la exposición.

Antes de terminar, quiero comentaros que me encantó el espacio expositivo del Museo; la distribución, el recorrido muy cómodo, con espacios amplios y la acertada iluminación. Todo el entorno de las salas, en color negro y gris, dando protagonismo a las prendas y objetos expuestos, hace que el espectador no pueda abstraerse de lo que allí se muestra. He contemplado muchas exposiciones de moda a lo largo de mis viajes, y pocas veces me han sorprendido tan gratamente como en ésta. Sin duda volveré cada vez que regrese a NYC.




¿Cuál es el futuro? en mi opinión, la tecnología seguirá evolucionando día a día, y estará presente en la moda. Sin embargo, no debemos olvidarnos de otra de las tendencias alternativas, la Eco-Fashion. Sistema productivo que continuará ocupando un lugar importante, como expresión de la conciencia ecológica y social, dentro de un mundo cada vez más global. Aunque éste es un tema que desarrollaré más adelante...




 
Exposición "Fashion and Technology" organizada por:

Elia Ariele 
Emma McClendon
Colleen Hill
Lynn Weydner 

Agradecimientos:

Judith Schwwantes (Asistente de prensa y Relaciones Públicas del FIT Museum), por facilitarme las imágenes del interior de la Exposición, así como la información adicional para la elaboración de este post.

 

Imágenes exposición cortesía The Museum at FIT, Nueva York.

Imágenes exterior Museo: Karin Wachtendorff



Información adicional sobre el Moiré, las anilinas y tejidos sintéticos en este Blog:










14 comentarios:

  1. Fantástico post, Karin. Bien elaborado, no te limitas a mostrar imágenes, sino que nos aportas tu singular visión de los temas. Es increible lo bien que te adaptas a todo, no sólo tratas la moda pasada, también te animas con el presente y el futuro. Tus grandes conocimentos te lo permiten. Enhorabuena y suerte en el concurso!!!

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    1. Muchas gracias por tus afectuosas palabras! El día 7 sabremos en qué ha quedado el concurso. De todas formas, el haber quedado 5ª ya es un triunfo para mí.
      Un cordial saludo!

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  2. Excelente e ilustrativa entrada, en tu línea de calidad.
    Muchas gracias.

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    1. Muchas gracias Concha, me alegra que te haya gustado.
      Un cordial saludo!

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  3. No es de extrañar que tu blog esté siempre tan bien documentado, visitas galerías, museos y haces viajes para conocer de primera mano las primeras y últimas tendencias y como dice Concha en tu linea de calidad. Como siempre nos has hecho vivir un reportaje, como si estuviéramos allí.
    Besos Karin y que tengas un precioso día.

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    1. Gracias querida amiga. Mientras pueda, haré viajes para visitar museos de Moda y luego contarlo en el Blog. Espero que pronto me salga algún patrocinio, si no, me voy a arruinar....
      Un beso!!!

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  4. Fantastico Post Karin, muchas felicidades. Gracias por mencionarme a mi en tu post y por incluir mi blog. Fue nada menos que un placer conocerte en persona y poder visitar el museo ese día contigo. La pasamos tan bonito la verdad.

    Un fuerte abrazo!

    Maria
    onestyleatatime.com

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    1. También para mí fue estupendo, las horas pasaron volando. La próxima vez tenemos que ir a algún desfile, como habíamos comentado!!!!
      Un abrazo
      Karin

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  5. Me ha encantado el post!!
    Enhorabuena!!

    Me encantaría poder ir a Nueva York, es uno de mis sitios pendientes, poder visitar el museo y también poder conocer personalmente a María, que tengo el placer de seguir también su blog!!

    Un abrazo!

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  6. Muy bonita la exposición, me ha encantado es como si hubiera estado allí por la manera que nos la has narrado, .
    Feliz fin de semana.

    Saludos

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  7. Vi aqui no Brasil (São Paulo) uma exposição do Pierre Cardin e no inicio da pagina vi a foto desse vestido que apreciei nessa mesma exposição, muito bom seu blog, parabéns.

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