María y yo acordamos encontrarnos en el Museo que forma parte del Instituto de Moda y Tecnología de Nueva York (Museum at FIT). Era la fría mañana del dia 4 de enero. Como llegué unos minutos antes de la hora convenida, aproveché para entrar en la cafetería de enfrente, y mientras me tomaba un café, pude contemplar a través de los ventanales, el tráfico y la gente que caminaba con prisas por la populosa 7ª Avenida, también llamada "Fashion Avenue".
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| Fachada exterior del Museo |
Tras tomar algunas fotos de la fachada del edificio, entré al lobby del museo; es amplio, luminoso y muy moderno. A la hora convenida, llegó mi amiga María Cartagena, quien iba a acompañarme en la visita.
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| María Cartagena |
María es neoyorkina, estudió Diseño de Moda en el FIT (Fashion Institute of Technology) y es autora del Blog titulado One Style at a Time del que soy seguidora y que os recomiendo. A través de sus interesantes reseñas, nos mantiene puntualmente informados de las últimas tendencias en moda.
Tras saludarnos y charlar unos minutos, entramos a la exposición, titulada "Fashion and Technology" (Moda y Tecnología), que se podrá visitar hasta el día 8 de Mayo.
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| © 2012 The Museum at FIT |
El telar
de Jacquard, la máquina de coser,las nuevas técnicas de acabados con efecto de superficie, como el moiré*, y los tintes a base de anilina*, son algunos de los primeros avances.
A partir del siglo XX, las innovaciones tecnológicas se van sucediendo de forma imparable. Por ejemplo, el desarrollo de las técnicas de estampación, y los nuevos tejidos sintéticos*, hacen que nos resulte imposible saber si el diseño sigue a la tecnología o si es a la inversa. La interacción es innegable.
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| © 2012 The Museum at FIT |
En los años 60, diseñadores como Courrèges, Cardin, el español Paco Rabanne, Emilio Pucci e incluso Yves Saint Laurent, se atreven a innovar aportando nuevos materiales hasta entonces inéditos; como el papel, el metal, o el PVC.
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| Vestido color fucsia, diseño de Pierre Cardin, con volúmenes en 3D, 1968 © 2012 The Museum at FIT |
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| © 2012 The Museum at FIT |
Los años 90 aportaron innovaciones de la mano de los diseñadores japoneses, quienes experimentaron con nuevas técnicas y materiales. A la izquierda, uno de los vestidos de la colección Pleats Please, 1997 (con tejido de monofilamento de poliéster plisado) de uno de mis diseñadores favoritos Yssey Miyake. Al centro, el conjunto holograma de Kenneth Richards, 1996. Y el jumpsuit cibernético con estampado op-art de Jean Paul Gaultier, 1996.
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| © 2012 The Museum at FIT |
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| © 2012 The Museum at FIT |
La tecnología 3D, que emplea un láser controlado por ordenador, que es capaz de esculpir de forma perfecta un prenda capa por capa. Este ejemplo creado por el estudio de diseño holandés "Freedom of Creation" nos lo muestra. El vestido, y el bolso a juego fueron creados especialmente para la colección del Museo.
A continuación, os propongo que veáis el video del proceso.
En la última parte de la exposición, podremos encontrar el análisis que se hace sobre las distintas formas en que se manifiestan los avances tecnológicos hoy en día; desde textiles, hasta software de diseño para la creación de redes en medios sociales, así como el aumento de la velocidad en la comunicación global.
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| © 2012 The Museum at FIT |
Producido por Burberry en 2011, este desfile holográfico, se proyecta a tamaño natural junto a un monitor con un live feed de Twitter, mientras dos IPads te ofrecen un acceso directo a la web de la exposición.
Antes de terminar, quiero comentaros que me encantó el espacio expositivo del Museo; la distribución, el recorrido muy cómodo, con espacios amplios y la acertada iluminación. Todo el entorno de las salas, en color negro y gris, dando protagonismo a las prendas y objetos expuestos, hace que el espectador no pueda abstraerse de lo que allí se muestra. He contemplado muchas exposiciones de moda a lo largo de mis viajes, y pocas veces me han sorprendido tan gratamente como en ésta. Sin duda volveré cada vez que regrese a NYC.
¿Cuál es el futuro? en mi opinión, la tecnología seguirá evolucionando día a día, y estará presente en la moda. Sin embargo, no debemos olvidarnos de otra de las tendencias alternativas, la Eco-Fashion. Sistema productivo que continuará ocupando un lugar importante, como expresión de la conciencia ecológica y social, dentro de un mundo cada vez más global. Aunque éste es un tema que desarrollaré más adelante...
Exposición "Fashion and Technology" organizada por:
Elia Ariele
Emma McClendon
Colleen Hill
Lynn Weydner
Agradecimientos:
Judith Schwwantes (Asistente de prensa y Relaciones Públicas del FIT Museum), por facilitarme las imágenes del interior de la Exposición, así como la información adicional para la elaboración de este post.
Imágenes exposición cortesía The Museum at FIT, Nueva York.
Imágenes exterior Museo: Karin Wachtendorff
Judith Schwwantes (Asistente de prensa y Relaciones Públicas del FIT Museum), por facilitarme las imágenes del interior de la Exposición, así como la información adicional para la elaboración de este post.
Imágenes exposición cortesía The Museum at FIT, Nueva York.
Imágenes exterior Museo: Karin Wachtendorff
Información adicional sobre el Moiré, las anilinas y tejidos sintéticos en este Blog:
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